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半自動光刻機
品牌:韓國MIDAS
型號:MDA-400M, MDA-60MS
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英國SPTS 蒸發HF刻蝕 SPTS UEtch
品牌:英國SPTS
型號:SPTS UEtch
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Nikon NSR-I12
品牌:尼康
型號: NSR-I12
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NIKON步進式投影光刻機
品牌:尼康
型號:步進式投影光刻機
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SMEE 500系列光刻機 —— IC后道先進封裝
品牌:上海品測
型號:SMEE 500
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美OAI光刻機Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美國OAI
- 型號: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 產地:美國
美國 OAI 光刻機:Model 200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model 2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model 5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器,采用經過行業驗證的組件,使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器,需要最小的潔凈室空間。它為研發,或有限規模,試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸
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小型臺式無掩膜光刻系統
- 品牌:英國Durham Magneto Optic
- 型號: Microwriter ML3
- 產地:英國
Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
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紫外曝光機/光刻機
- 品牌:德國SUSS MicroTec
- 型號: MJB4
- 產地:德國
Perfect Low-Cost Solution: ? High Accuracy ? Good Optical performance? latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: ? MEMS ? Telecommunica
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尼康光刻機 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步進式投影光刻機
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-
- 產地:日本
尼康光刻機 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步進式投影光刻機,NSR 204,NSR 204B, NSR 1505 G6E.
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德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150
- 品牌:德國海德堡
- 型號: MLA150
- 產地:德國
德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高 效數位光刻與灰度光刻.
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μMLA桌面無掩模光刻機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: μMLA桌面無掩模光刻機
- 產地:德國
μMLA桌面無掩模光刻機 桌面型光刻機μMLA 技術參數直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能(光柵掃描和矢量曝光模式)最小結構尺寸 [μm]0.61最小線寬/線隙 [半寬, μm]0.81.5第二層對準大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二層對準大于 50 x 50 mm2&n
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Nikon NSR-I12 I線步進式光刻機
- 品牌:尼康
- 型號: Nikon NSR-I12
- 產地:日本
I線步進式光刻機 / I-line stepper,型號:Nikon NSR-I12技術指標及功能廣泛應用于生產線,是6英寸,8英寸等主力I線生產機臺,適用于I線光刻膠的曝光,操作簡單,曝光精度準,解析力zui高可達0.35UM (350NM)
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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機
- 品牌:尼康
- 型號: NSR 1755i7B
- 產地:日本
把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復制到涂布有光刻膠的晶圓上,分區域進行步進式曝光。本機臺可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光,曝光精度可達500nm?;局笜?. RESOLUTION:0.5μm2. LENS DISTORTION:≤0.9μm3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY:≤0.02μm4. STEPPING ACCURACY:≤0.08μm 5. OVERLAY ACCURACY:≤0.15μm(X,Y)
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瑞典MYCRONIC光刻機
- 品牌:瑞典Mycronic
- 型號: Prexision-800
- 產地:瑞典
提高分辨率 25%; 更佳的貼片性能 70%; 更快的寫入速度20% 。
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德國海德堡掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400
- 品牌:德國海德堡
- 型號: VPG+ 800/1100/1400
- 產地:德國
大尺寸掩膜版生產工具 平行化曝光制程技術
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海德堡掩膜版光刻機 VPG+ 200/400
- 品牌:德國海德堡
- 型號: VPG+ 200/400
- 產地:德國
多種數據輸入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 網絡數據傳輸 計量校準系統 人工氣候室 階段地圖校正 邊緣檢測器單元 色差校正
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SUSS光刻機用曝光燈HBO系列
- 品牌:德國SUSS MicroTec
- 型號: HBO 200W/DC,HBO 350W/S
- 產地:德國
SUSS蘇斯,EVG, OAI公司生產的半導體和太陽能行業用光刻機,目前得到業界的廣泛認同,該系列光刻機曝光系統的曝光燈,主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產的曝光燈進行配套供應。歐司朗/牛尾曝光燈系列,具備良好的光通量,穩定的光強度以及優質的品質受到業界的青睞。
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小型臺式無掩膜光刻系統
- 品牌:英國Durham Magneto Optic
- 型號: Microwriter ML3
- 產地:英國
Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
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Nanoscribe無掩膜光刻機Quantum X shape
- 品牌:nanoscribe
- 型號: Quantum X shape
- 產地:德國
Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該系統不僅是快速成型制作的最佳機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規?;a。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結構,提供真正意義上的設計自由度。該系統可實現您各類高縱橫比結構。
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德國海德堡 μMLA桌面無掩模光刻機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: μMLA
- 產地:德國
德國海德堡 μMLA桌面無掩模光刻機
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海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 200,VPG+400
- 品牌:德國海德堡
- 型號: VPG+ 200,VPG+400
- 產地:德國
海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 200,VPG+400 大尺寸掩膜版生產工具 平行化曝光制程技術 大型光學系統上的創新與突破
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瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻機
- 品牌:瑞典Mycronic
- 型號: FPS 6100
- 產地:瑞典
瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻機,使多功能光掩模制造,具有無與倫比的靈活性。
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美國OAI光刻機及光功率計
- 品牌:美國OAI
- 型號: Model 200/Model 800MBA
- 產地:美國
美國 OAI 光刻機:Model 200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model 2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model 5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器,采用經過行業驗證的組件,使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器,需要最小的潔凈室空間。它為研發,或有限規模,試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸
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美OAI光刻機Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美國OAI
- 型號: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 產地:美國
美國 OAI 光刻機:Model 200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model 2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model 5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器,采用經過行業驗證的組件,使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器,需要最小的潔凈室空間。它為研發,或有限規模,試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸
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Nikon G-line步進光刻機: NSR-1755G7
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-1755G7
- 產地:日本
適用于分辨率不低于0.65μm的大規模集成電路工藝器件量產的G-line步進式光刻機。
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瑞典Mycronic 掩膜計量系統Prexision-MMS
- 品牌:瑞典Mycronic
- 型號: Prexision-MMS
- 產地:瑞典
· zuixin的創新性Prexision平臺具備優異的極ng準度與可重復性 · 用我們的ZL技術改善配準測量。 · 因為第 一次測量的結果精確無誤,這大大給您節省了周轉時間。 · 充分發揮我們的Prexision光刻機的潛力。
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德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統
- 品牌:瑞士Eulitha
- 型號: PhableR 100
- 產地:德國
PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統,但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結果非常均勻,質量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。
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德國Heidelberg MLA 150 激光光刻機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: MLA 150
- 產地:德國
德國高精密激光直寫繪圖機 非接觸式曝光 可支持GX數位光刻與灰度光刻
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德國Heidelberg MLA 100 激光光刻機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: MLA 100
- 產地:德國
基本灰度曝光模式 對準攝像系統 實時自動對焦 User-optimized接觸向導
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德國海德堡VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: VPG 1600
- 產地:德國
VPG 設計有可以搭載多樣化不同尺寸的承載平臺,例如:1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但這些系統都安裝有氣浮裝置,可配置半自動或者全自動的上下版裝置,并且可以選擇zui高輸出功率20W的UV激光發射頭。
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德國海德堡Heidelberg DWL 8000 高級大型2D,3D直寫設備
- 品牌:德國海德堡
- 型號: DWL 8000
- 產地:德國
搭配海德堡的精密軟件控制可以讓您在大面積范圍中,也可以瞄寫2維和3維圖形的DWL 8000系列,是針對微光學領域的2維和3維的微構造形式所制作。 對于激光圖形生成器,MEMS,Displays 和sensors 都有加寬,加高的設計。DWL 8000精確的溫度控制,動態的焦點追蹤,closed loop位置決定,確保wan美布置和完全覆蓋性的直寫范圍。 DWL 8000多年的經驗累積,使Gray Scale曝光技術,可以更有效率于更小的系統上直寫更大的區域范圍。在使用高分辨率技術掩模板上,使用曝光強度經過調整的激光,可在連續表面上形成1個復雜的3維樣式。
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德國Heidelberg Heidelberg DWL 66+ 無掩模直寫機
- 品牌:德國海德堡
- 型號: DWL 66+
- 產地:德國
科研用激光直寫系統 具有多種直寫模塊,實現不同精度直寫需求 能于結構上進行灰度曝光
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德國海德堡 激光直寫光刻機DWL 66+
- 品牌:德國海德堡
- 型號: DWL 66+
- 產地:德國
DWL 66+激光光刻系統是具經濟效益的高分辨率圖像產生器, 具有多種直寫模塊,實現不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光
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Nikon 尼康 光刻機 NSR-4425i
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-4425i
- 產地:日本
Nikon 尼康 光刻機 NSR-4425i
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NIKON步進式投影光刻機
- 品牌:尼康
- 型號: 步進式投影光刻機
- 產地:日本
NIKON步進式投影光刻機,分辨率:0.35μm, 套刻精度:< 75nm, 十字線對準:5:1 , 150毫米* 150毫米
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Nikon 6英寸分步重復光刻機NSR 1755i7B
- 品牌:尼康
- 型號: NSR 1755i7B
- 產地:日本
Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機,可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光,曝光精度可達500nm。
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Nikon NSR-1755G7
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-1755G7
- 產地:日本
Nikon NSR-1755G7適用于分辨率不低于0.65μm的大規模集成電路工藝器件量產的G-line步進式光刻機。
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Nikon NSR-I12
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-I12
- 產地:日本
Nikon NSR-I12廣泛應用于生產線,是6英寸,8英寸等主力I線生產機臺,適用于I線光刻膠的曝光,操作簡單,曝光精度準,解析力最高可達0.35UM (350NM)
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Nikon光刻機
- 品牌:尼康
- 型號: NSR-i12,NSR-1755G7,NSR-1755i7B
- 產地:日本
Nikon步進式光刻機,廣泛應用于生產線,操作簡單,曝光精度準,解析力最高可達0.35UM (350NM)
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德國海德堡 激光直寫光刻機DWL 66+
- 品牌:德國海德堡
- 型號: DWL 66+
- 產地:德國
DWL 66+激光光刻系統是具經濟效益的高分辨率圖像產生器, 具有多種直寫模塊,實現不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光
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OAI 紫外光刻機 Model 200 型
- 品牌:美國OAI
- 型號: Model 200
- 產地:美國
美國 OAI 光刻機 Model 200 型桌面掩模對準器系統,完全手工操作,輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm線,Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
- 激光刻蝕機
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